光刻设备≠光刻机（2 / 2）
1959年：荷兰飞利浦公司研发出第一台商用光刻机，应用于半导体产业。
1955年，贝尔实验室的Jules Andrus和Walter L. Bond开始采用光刻技术在印刷电路板上制作图案，使用二氧化硅层在硅片上产生更精细、更复杂的设计。
1957年，美国陆军Diamond Ordnance Fuse实验室的Jay Lathrop和James Nall获得了光刻技术的专利，该技术用于沉积约200微米宽的薄膜金属条。
1958年，Fairchild的Jay Last和Robert Noyce制造了首批“步进重复”相机之一，利用光刻技术在单个晶圆上制造了许多相同的硅晶体管。
1959年，GCA收购了David W. Mann，成为光刻技术的先驱之一。
↑返回顶部↑